Authors David Yélamos-Pastor Citation Key 203 COinS Data Date Published 09/1995 Publisher Universitat Autònoma de Barcelona Tertiary Authors X. Aymerich i M. Nafría Year of Publication 1995 ← Distribucions de càrrega atrapada en l’òxid de porta de dispositius MOS en condicions d’estrés estàtic i dinàmic → Reliability of SiO2 and high-k gate insulators: a nanoscale study with conductive-AFM