Authors Javier Martín-Martínez Citation Key 197 COinS Data Date Published 07/2007 Publisher Universitat Autònoma de Barcelona Tertiary Authors M. Nafría i R. Rodríguez Year of Publication 2007 ← Avaluació de les prestacions elèctriques diferents dielèctrics high-k amb CAFM → Efecte de la capa interficial de SiO2 en la degradació dielèctrica de stacks de HfO2/SiO2 en dispositius MOS sotmesos a estressos estàtics i dinàmics